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UV光源UV光清洗灯技术原理
时间: 2021-03-16 09:28 浏览次数:
UV清洁灯的技术是利用有机化合物的光敏氧化,使 uvled固化 去除附着在材料表面的有机物。 用UV清洁灯技术清洁后的材料表面可以达到“原子清洁度”指标。 详细的解释是,发出波长为185nm和254nm的光波的UV光源具有相对较高的能量。 当这些光子作用于要清洁的对象的表面时,大多数 碳氢化合物 具有强UV,波长为185nm。 具有吸收能力,在吸收了185nm波长的UV能量后,被分解为离子
UV清洁灯的技术是利用有机化合物的光敏氧化,使uvled固化去除附着在材料表面的有机物。
用UV清洁灯技术清洁后的材料表面可以达到“原子清洁度”指标。 详细的解释是,发出波长为185nm和254nm的光波的UV光源具有相对较高的能量。 当这些光子作用于要清洁的对象的表面时,大多数碳氢化合物具有强UV,波长为185nm。 具有吸收能力,在吸收了185nm波长的UV能量后,被分解为离子游离态原子,激发分子和中子,这就是所谓的光敏性。

UV光源UV光清洗灯技术原理


空气中的氧气分子在吸收波长为185nm的UV后也会产生臭氧和原子氧。 臭氧对波长为254nm的UV也有很强的吸收作用,臭氧会分解成原子氧和氧气。 其中,原子氧非常活跃。 在其作用下,物体表面的碳和碳氢化合物的分解产物可以转化为挥发性气体:二氧化碳和水蒸气逸出表面,从而完全消除了对物体的粘附碳和有机污染物 表面。
目前,国外广泛使用的清洁方法是UVUV清洁。UV胶固化一方面可以避免由于使用有机溶剂而造成的污染,同时可以缩短清洁过程。 用普通石英产生的低压汞的清洁效果远不如用合成石英制成的低压汞灯的清洁效果。
文章TAG标签:UVLED固化原子氧游离态原子碳氢化合物UV光源紫外线光清洗

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